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- PVD物理气相沉积系统:如热蒸镀、电子束蒸镀、磁控溅射
- CVD化学气相沉积系统:如PECVD
- Dry Etching干法刻蚀系统:如RIE,ICP,DRIE,IBE
- Wet Etching湿法刻蚀系统:兆声无损
- 生长系统:如ALD原子层沉积、PA-MOCVD等离子辅助MOCVD
- 等离子清洗去胶系统:如RF去胶、微波去胶
- 双系统:双腔独立系统、双腔自动传输系统、集群系统
- 等离子清洗去胶系统:RF去胶、微波去胶
- 器件测试系统:模拟太空环境的器件测试
- 其它测试系统和配件:等离子可控问样品台、等离子源
我们在真空和等离子方面的技术能力,使得我们可以根据客户需要提供强大的定制系统,包含单片式、Cassette式自动上下片的RTP系统,PLD系统,PIII离子注入机等等。此外,我们可以把系统扩展到大尺寸的应用。
对于网站没有详细介绍的真空、等离子技术的任何关于薄膜工艺应用的设备,都欢迎咨询我们。
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